Vacuümwaterstof

Vacuümwaterstof is de term die in de Nederlandse wetenschappelijke literatuur wordt gebruikt voor waterstof die aanwezig is in een vacuümomgeving. Het verwijst meestal naar waterstofgas (H2) en, in experimentele omstandigheden, naar geïoniseerd waterstof (H+) of losse waterstofatomen die voorkomen in ultrahoge-vacuüm (UHV) systemen. In zulke omgevingen fungeert waterstof vaak als restgas en kan het een belangrijke rol spelen in onderzoek aan oppervlakken en in dunne-filmprocessen.

Eigenschappen en bronnen: Waterstof is het lichtste molecuul en kan onder vacuüm relatief snel desorberen uit materialen. In UHV kan de concentratie van vacuümwaterstof worden beïnvloed door uitgassing uit componenten, lekkages, en eventueel toegevoerd procesgas. De aanwezigheid wordt meestal gevolgd met massaspectrometrie (residual gas analysis, RGA) of andere vacuümmetingen.

Toepassingen: In oppervlaktescience en nanofabricage is vacuümwaterstof vaak het dominante restgas en dient het als referentie- of procesgas in technieken zoals sputteren, chemische dampdepositie (CVD) en kristalografie met fellige bronnen. Het speelt ook een rol bij calibratie van instrumenten en bij spectroscopische metingen waarbij waterstof als lichtgas wordt gebruikt.

Veiligheid en beheer: Waterstof is brandbaar en kan explosieve mengsels vormen met zuurstof. In laboratoria en vacuüminstallaties gelden strikte veiligheidsmaatregelen, waaronder goede venting, aardingsystemen en detectie van ontstekingsbronnen.

Zie ook: vacuümtechniek, resterend gas analyse, oppervlaktescience.