röntgenreflectie
Röntgenreflectie, ook wel X-ray reflectivity (XRR) genoemd, is een niet-destructieve analysetechniek voor de karakterisering van dunne lagen en multi-lagen structuren. Bij een typische meting wordt monochromatische röntgenstraling onder een lage invalhoek op een vlakke ondergrond gericht en de intensiteit van het specular teruggekaatste stralingsveld geregistreerd als functie van invalshoek of röntgengolflengte. De straling reflecteert vanuit verschillende interfaces binnen een filmstack en interfereert, waardoor klaren verschijnen die bekend staan als Kiessig-fringen. De positie en amplitude van deze fringes hangen af van de laagdikten, de elektronen-dichtheid (gerelateerd aan de materiaal-dichtheid) en de randscheiding tussen lagen.
Gegevens worden geanalyseerd door modellering met de Fresnel-vergelijkingen en recursieve formaliseringen (veelal de Parratt-formalisatie). Hiermee kunnen
Toepassingen zijn onder meer de karakterisering van halfgeleiderfilms, oxide- en metaallagen, polymeren en beschermende coatings. XRR
Beperkingen zijn onder meer modellering-afhankelijkheid en het vereisen van duidelijke, relatief scherpe interfaces. XRR wordt vaak
---