hafniumoxideachtige
Hafniumoxideachtige is een term die verwijst naar materialen die op hafniumoxide (hafnia, HfO2) zijn gebaseerd of dit oxide als dominante component bevatten. Het omvat zuivere hafnia‑achtige systemen, hafnia-zirconia solidoplossingen (Hf1−xZrxO2), gedopte hafnia en nanostructuren waarin hafnia de hoofdstructuur of het functionele bestanddeel vormt. In dit kader wordt de term vaak gebruikt om zowel dunne films als nanopartikels te beschrijven die eigenschappen delen met hafniumoxide.
Kenmerkende eigenschappen zijn onder meer een hoge diëlektrische constante (k) voor hafnia‑houdende lagen, een breed bandgap
Toepassingen richten zich vooral op de micro-elektronica en gerelateerde velden. Hafnia‑gebaseerde dielektrica worden veel gebruikt als
Productie vindt doorgaans plaats via dunne-filmafzettingstechnieken zoals atomaire laagafzetting (ALD), chemical vapor deposition (CVD) of sputteren,