plasmagefaseerde

Plasmagefaseerde is een term die in het Nederlands af en toe opduikt in discussies over plasma-gerelateerde processen, maar kent geen vaste, wijdverspreide definitie in de wetenschappelijke literatuur. Over het algemeen wordt ermee bedoeld dat fasering of gefaseerde input wordt toegepast om tijds- of ruimtelijke relaties tussen plasmaprocessen te controleren. Het gaat daarbij niet om een apart type plasma, maar om een conceptueel kader waarbij de fase van signalen, pulsen of velden een rol speelt.

In de praktijk kan gefaseerde plasma-techniek slaan op het streven naar specifieke faserelaties tussen verschillende plasmaprocessen, zoals pulsen, plasmawetten of de werking van meerdere elektroden en RF-bronnen. Doel is vaak betere controle, uniformiteit of efficiëntie te bereiken en interferentie tussen onderdelen te beperken.

Toepassingsgebieden die in discussies naar voren komen, betreffen onder andere plasmaprocessen in semiconductorfabricage met meerdere RF-bronnen, plasma-etching of -depositie, en concepten zoals gefaseerde plasma-antenne-arrays of plasma-gestuurde aandrijving. Omdat de term geen standaarddefinitie heeft, varieert de precieze betekenis per bron en context.

Zie ook: fased array, plasma-oscillatie, gefaseerde input, plasma-aandrijving. Deze korte beschrijving kan dienen als startpunt voor verder bronnenonderzoek.