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Verbindungshalbleiter

Verbindungshalbleiter sind Halbleitermaterialien, die aus chemischen Verbindungen mehrerer Elemente bestehen. Typischerweise gehören sie zu den Klassen III-V-, II-VI- oder IV-VI-Verbindungen, wie Galliumarsenid (GaAs), Indiumphosphid (InP), Galliumnitrit (GaN) oder Zinksulfid (ZnS). Im Gegensatz zu elementaren Halbleitern wie Silizium oder Germanium weisen Verbindungshalbleiter oft direkte Bandlücken, hohe Elektronenmobilität oder größere Bandabstände auf, was sie besonders für Optoelektronik und Hochfrequenzanwendungen geeignet macht.

Zu den am häufigsten eingesetzten Verbindungshalbleitern gehören III-V-Verbindungen wie GaAs, InP und AlGaAs; II-VI-Verbindungen wie ZnS,

Herstellung und Verarbeitung erfolgen überwiegend durch epitaktische Verfahren wie MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition), MBE (Molecular

Anwendungen finden sich vor allem in der Optoelektronik (LEDs, Laser, Detektoren), der Hochfrequenz- und Hochleistungselektronik (GaAs-

ZnSe
und
CdTe;
sowie
Nitride
wie
GaN
und
InN.
Diese
Materialien
ermöglichen
effiziente
Lichtemission
und
-absorption
sowie
hohe
Frequenzen,
wodurch
sie
in
LEDs,
Laserdiode,
Photodioden,
Hochfrequenztransistoren
und
Solarzellen
eine
zentrale
Rolle
spielen.
Durch
die
Bildung
von
Mehrschichtstrukturen
und
Heterostrukturen
lassen
sich
Quantenwellen-
und
Quantenpunkte
realisieren,
die
das
Optoelektronik-
und
Mikroelektronik-Design
erweitern.
Beam
Epitaxy)
oder
HVPE
(Hydride
Vapor
Phase
Epitaxy).
Diese
Techniken
ermöglichen
kontrollierte
Schichtdicken,
Legierungskontrollen
und
die
Realisierung
komplexer
Heterostrukturen.
Allerdings
verursachen
größere
Gitterunterschiede
Defekte,
die
Leistung
und
Zuverlässigkeit
beeinflussen
können.
und
InP-basierte
Bauelemente,
HEMTs)
sowie
in
Solarzellen
(GaAs-basierte
Zellen)
und
leistungselektronischen
Bauelementen
(GaN,
SiC).
Herausforderungen
sind
Kosten,
Materialqualität,
Umweltaspekte
bei
bestimmten
Verbindungen
sowie
die
Integration
in
bestehende
Siliziumprozesse.