EtchpitDichte

EtchpitDichte bezeichnet die Anzahl der Ätzpitze pro Flächeneinheit, die sich nach chemischer Ätzung auf der Kristalloberfläche bilden. Ätzpitze entstehen typischerweise an Versetzungen im Kristallgitter und dienen als Indikator für Versetzungsdichte und Oberflächenqualität. In der Regel steigt mit zunehmender Versetzungsdichte auch die EtchpitDichte; die Größe und Form der Pitze hängen jedoch von Material, Orientierung und Ätzbedingungen ab, so dass die Dichte kein absoluter Messwert ist.

Bestimmung erfolgt durch standardisierte Ätzung, gefolgt von mikroskopischer Auswertung: Die Fläche wird abgezählt, Pitze pro bekannter Fläche gezählt und Dichte berechnet. Häufig werden optische Mikroskopie oder Rasterelektronenmikroskopie genutzt; Bildverarbeitung erleichtert die Zählung. Um Vergleichbarkeit sicherzustellen, werden mehrere Felder gemessen und durch Mittelwerte repräsentiert.

Wichtige Einflussfaktoren sind Material, Kristallorientierung, Versetzungstyp (Kanten- oder Schraubenversetzungen), Ätzmittel, Temperatur, Ätzzeit sowie Oberflächenreinigung. Nicht alle Versetzungen bilden Pitze; einige Pitze verschmelzen oder bleiben aus, was die direkte Umrechnung in Versetzungsdichte erschwert. Daher dient EtchpitDichte meist als grobes Qualitätsmaß oder relative Größe, ergänzt durch weitere Defektanalysen.

Anwendungen finden sich in Halbleitertechnik, Metallurgie und Kristallzüchtung, wo Oberflächenqualität und Defektverteilung Herstellungsprozesse beeinflussen. Der Begriff ist besonders in der Materialkunde gebräuchlich, um Proben zu vergleichen oder qualitative Beurteilungen vorzunehmen.