kemiskfilmdækket

Kemiskfilmdækket refererer til en overflade, der er dækket af et tyndt film dannet gennem kemiske processer. Filmen består ofte af oxider, organiske lag eller blandede forbindelser og dannes ved kontakt med væsker eller gasser gennem kemisorption, redoxreaktioner eller kemisk syntese.

Dannelse sker typisk ved metal-passivering, hvor et beskyttende oxidlag (f.eks. Cr2O3 eller Al2O3) dannes, ved dannelse af organiske selv-sammensatte monolag (SAMs), eller ved kemisk dampaflejring og polymerisation, der giver tynde polymerfilm. Filmen kan være konform og ensartet, eller indeholde defekter afhængigt af processer og miljø.

Materialer der bliver kemiskfilmdækket omfatter metaloverflader som aluminium og rustfrit stål, halvledermaterialer som silicium, keramiske stoffer og visse polymerer. Eksempler er passiverede oxidlag på aluminium, kromoxid på stål, eller silanbaserede film på glas og plast.

Filmens egenskaber bestemmer funktion: korrosionsbeskyttelse, vand- og gasbarriere, ændring af elektriske eller optiske egenskaber og ændring af overfladeenergi og glathed. Tykkelsen ligger typisk i nanometer til få mikrometer og afspejler sammensætning og fremstillingsmåde.

Karakterisering omfatter XPS (røntgenfotoelektronspektroskopi), ellipsometri, AFM og FTIR, suppleret af kontaktvinkelmåling og mikroskopi for at vurdere jævnhed og defekter. Defekter og tykkelsesvarianter er væsentlige for ydeevne og levetid.

Anvendelser findes i korrosionsbeskyttelse, elektronik og optik, samt medicinske implantater og sensor-teknologier. Udfordringer omfatter kontrolleret tykkelse, ældning og miljøpåvirkning samt omkostninger ved fremstillingsprocesser.