fotolithografisch

Fotolithografie is een proces dat wordt gebruikt om patronen op een oppervlak aan te brengen, voornamelijk in de halfgeleiderindustrie voor de productie van microchips. Het is een afgeleide van fotografie en lithografie, waarbij licht wordt gebruikt om een ontwerp over te brengen. Het proces begint met een masker, een transparante plaat met het gewenste patroon. Dit masker wordt bovenop een substraat geplaatst dat bedekt is met een lichtgevoelige laag, fotolak genaamd. Vervolgens wordt ultraviolet licht door het masker heen op de fotolak geschenen. De belichte delen van de fotolak ondergaan een chemische verandering. Daarna wordt de fotolak ontwikkeld, waarbij de belichte of onbelichte delen worden weggespoeld, afhankelijk van het type fotolak. Het achtergebleven fotolakpatroon dient als beschermende laag. Daarna kunnen verdere bewerkingen zoals etsen of het aanbrengen van materialen worden uitgevoerd, waarbij de fotolak de delen van het substraat beschermt die niet bewerkt mogen worden. Na deze bewerkingen wordt de resterende fotolak verwijderd. Dit proces kan meerdere keren worden herhaald om complexe structuren te creëren. Fotolithografie maakt het mogelijk om extreem kleine en precieze patronen te produceren, wat essentieel is voor de miniaturisatie en functionaliteit van elektronische componenten.