Plasmapohjainen

Plasmapohjainen on suomenkielinen adjektiivi, joka viittaa johonkin, joka perustuu plasmaan tai sitä käyttää. Plasma puolestaan on kaasun neljäs olomuoto, jossa atomit ovat ionisoituneet ja koostuvat edelleen varauksellisista ioneista, elektroneista ja usein neutraaleista atomeista. Plasmapohjaisia prosesseja voidaan käyttää moninaisesti materiaalien valmistuksessa, muokkauksessa ja käsittelyssä.

Plasmaa voidaan tuottaa erilaisilla tavoilla ja olosuhteilla, kuten alipainesäiliöissä sähköisesti tai magneettisesti ylläpidetyin katkaisuin. Plasman reaktiiviset laajat partikellit voivat reagoida materiaalien pinnan kanssa sekä poistaa epäpuhtauksia että muokata pintaa. Plasmapohjaiset prosessit ovat usein erittäin pinnankestävät, niillä voidaan saavuttaa adheesion paranemista, kovuutta tai tiettyjä kemiallisia ominaisuuksia ilman suuria lämpötilamuutoksia.

Käyttökohteita ovat muun muassa puolijohdevalmistus, jossa plazmaa käytetään elektronisten kalvojen tai mikrosirujen pintojen etsaamiseen tai pinnoittamiseen, sekä pintojen siistiminen, karhennus ja polymerointi. Muita sovelluksia ovat pintojen sterilointi, desinfiointi, tekstiilien ja materiaalien pintakäsittely sekä ympäristötekniikan prosessit, kuten kierrätyksen tai vedenkäsittelyn parantaminen.

Plasmapohjaisia prosesseja ohjaavat prosessin parametrit kuten paine, virta, jännite ja kaasuseokset. Ne voivat vaatia erityisiä turvallisuus- ja vakuutusjärjestelyjä korkean jännitteen, UV-säteilyn ja reaktiivisten kaasujen vuoksi. Tekniikka kehittyy edelleen pienempien, integroitujen ja energiatehokkaampien järjestelmien suuntaan.