Mikrovågsplasma

Mikrovågsplasma, även känt som mikrovågsinducerad plasma eller RF-plasma, är ett tillstånd av joniserad gas där energin för att skapa och bibehålla plasmatillståndet tillförs genom mikrovågsstrålning. Till skillnad från plasma som genereras av elektriska bågar, där energin oftast tillförs via elektroder, utnyttjar mikrovågsplasma elektromagnetiska vågor i mikrovågsfrekvensområdet. Dessa vågor, vanligtvis i frekvenser runt 2,45 GHz, kan effektivt överföra energi till gasmolekyler, vilket leder till kollisioner och joniseringsprocesser.

Skapandet av mikrovågsplasma sker ofta i en resonanskavitet eller med hjälp av vågledare som fokuserar mikrovågsenergin in i en gas. Energin absorberas av elektroner i gasen, som accelereras och sedan kolliderar med neutrala atomer eller molekyler, vilket frigör fler elektroner och skapar en kedjereaktion av jonisation. Detta resulterar i ett plasma som består av joner, elektroner och neutrala partiklar.

Mikrovågsplasma har en rad användningsområden inom industri och forskning. Det används bland annat för ytbehandling av material, såsom härdning och rengöring, samt i halvledarindustrin för etsning och deposition. Inom miljöteknik kan mikrovågsplasma användas för nedbrytning av föroreningar. Forskning pågår också för att utnyttja detta plasmatillstånd inom områden som avancerad materialframställning och medicinska applikationer. Dess fördelar inkluderar ofta god kontroll över plasmaparametrar och möjligheten att generera plasma vid lägre tryck jämfört med vissa andra metoder.