planariserad

Planariserad är ett svenskt begrepp som beskriver en yta som har gjorts plan genom planariseringsprocesser. Planarisering syftar till att minska topografiska variationer och uppnå en nästan helt jämn yta, vilket ofta krävs inför vidare bearbetning som tunna filmsavlagringar eller fotolitografi. En planariserad yta är i allmänhet uppnådd när höga utsprång slipats ned och dalar fyllts ut, så att efterföljande processer kan ske med bättre täckning och precision.

Den vanligaste metoden är kemisk mekanisk polering (KMP). Vid KMP förflyttas ett underlag mot en roterande poleringsyta medan en slurry med slipmedel och kemikalier används. Material avlägsnas genom en kombination av mekanisk bortslipning och kemisk upplösning, vilket jämnar ytan och reducerar topografin. Andra metoder inkluderar användning av planariserande lager följt av etsning eller avlägsnande av material genom kemisk bearbetning, samt olika efterföljande depositionstekniker som syftar till att skapa en plan yta inför nästa skede.

Användningsområden och krav. Planariserade ytor är särskilt viktiga inom halvledarindustrin för tillverkning av flerlagerstrukturer, där jämn täckning av tunnfilmer och exakt fotolitografi krävs. Det är också vanligt inom solceller, MEMS och andra högprecisionapplikationer där ytliga detaljer måste vara kontrollerade. Ytjämnhet mäts vanligtvis i Ra-värden och planhet specificeras i termer av plana- och stegnivåer.

Utmaningar och begränsningar. CPT- eller KMP-processer kan skapa defekter som dishning, erosion och repor, och de är kostsamma och tekniskt krävande att styra. Miljö-, kemikalie- och kostnadsaspekter är dessutom viktiga hänsyn i planariseringens arbetsflöde.