Plasmahöyryinen

Plasmahöyryinen on suomalainen termi, jota käytetään kuvaamaan tilaa, jossa ionisoitunut plasma esiintyy samanaikaisesti höyrystyneen kaasun kanssa. Tämä osittain ionisoitunut ympäristö sisältää plasman tunnusomaisia osia, kuten ioneja ja elektroneja sekä neutraaleja radikaaleja, mutta sitä muodostavat myös höyrynä olevat molekyylit, jolloin kemiallinen reaktiokirjo on monimutkaisempi kuin puhtaassa plasmassa tai pelkässä höyrytilassa.

Tilan syntyyn vaikuttavat lämpötila, paine sekä energiaristiriidat, jotka ionisoinnissa ja höyrystymisessä vaikuttavat toisiinsa. Plasmahöyryinen olosuhde on yleinen plasmaprosesseissa, kuten RF- tai mikroundisagissa syntyvissä plasmoissa sekä plasmalla edistettyjen hiukkas- ja pintakäsittelyiden yhteydessä. Sitä voidaan tarkastella erityisenä kehyksenä, jossa ionisoidun energian ja höyryvaiheen kemiallinen aktiivisuus yhdistyvät.

Ominaisuudet ja vaikutukset liittyvät korkeaan reaktiivisuuteen, sähkökenttien vaikutukseen sekä pienoiskoossa tapahtuvaan kemiaan. Käyttökohteita ovat esimerkiksi pinnoitteet ja pinnoite- sekä materiaalin syntetisointi, pintakäsittely ja kerrospinnoitusprosesseissa sekä tutkimuksessa plasma- ja kemiallisten reaktioiden yhteisvaikutusten selvittämiseksi. Haasteina mainitaan tilan hallinta, kerroksen tasaisuus sekä prosessin skaalautuvuus.

Termi plasmahöyryinen on erikoistunut ja käytössä pääasiassa suomalaisessa plasmapiirissä. Se ei välttämättä ole laajalti standardoitu käsite muilla kielillä, vaan vastineita etsitään usein osittain ionisoidun plasman tai plasma-augmented höyryn kuvaamisesta.