rutnätsmönster

Rutnätsmönster är en regelbunden upprepning av vertikala och horisontella linjer som bildar ett nät av lika stora rutor. Nätets celler används som referensramar för mätningar, uppdelning av utrymme och koordinatsystem.

Grunden består av rader och kolumner; avståndet mellan två intilliggande linjer kallas cellstorlek eller upplösning. Vanliga varianter är kvadratiskt rutnät där avstånden är lika i x- och y-riktning, och rektangulärt rutnät där horisontella och vertikala avstånd kan skilja sig. Isometriska rutnät används för att teckna tredimensionella vyer med diagonala linjer.

Användningsområden för rutnätsmönster är många. Inom kartografi och geodesi används det för att överföra geografisk information till ett referenssystem. Inom datorgrafik och bildbehandling fungerar rutnätsmönstret som raster eller pixellära gränser. Inom grafisk design och typografi används rutnätsystem för att uppnå konsekvent proportion och justering av element. Textilier, vävning och tryckprocesser använder ofta rutnät som grund för mönster och produktion.

Egenskaper som gör rutnätsmönster användbara är enkelhet, förutsägbarhet och flexibilitet. Linjernas färg, tjocklek och genomskinlighet kan anpassas utan att mönstret förlorar sin funktion som referensram. Historiskt har rutnätsmönster varit centrala i kartläggning, arkitektur och pedagogik för geometri och rumslig förståelse.