Plasmabaserade

Plasmabaserade processer är processer, tekniker eller material som använder plasma – en joniserad gas som innehåller positiva joner, elektroner och neutrala partiklar. Plasma kan vara kall eller högtemperatur och genereras ofta med elektriska urladdningar, radiovågor eller mikrovågor. Beroende på tryck och energi kan plasman vara atmosfärisk eller under vakuum. Plasmabaserade processer används för att förändra ytor, tillverka tunna filmer och utföra materialbearbetning där konventionella metoder är mindre lämpliga.

Vanliga plasmabaserade metoder inkluderar plasmaförstärkt kemisk gasfasdeposition (PECVD) för tunna filmer, plasmaassisterad fysikalisk vapendeposition (PVD) som magnetronsputtering, samt plasmaetsing och reaktiv jonetsning (RIE) för precis materialborttagning. Ytmodifiering och ytaaktivering med plasma används för att förbättra vidhäftning, vätbarhet eller kemisk funktionalitet hos polymerer, glas ochandra material. Plasma används också för sterilisation av medicinska produkter vid låga temperaturer samt i forskning kring nanomaterial och ytstruktur.

Användningsområden sträcker sig från elektronik och optik till ytförbehandling av polymerer, glas och metaller, samt medicinsk teknologi. Fördelarna med plasmabaserade processer inkluderar ofta låga bearbetningstemperaturer (särskilt vid kall plasma), god kontroll över ytkemi och möjligheten att behandla komplexa geometrier samt att reducera kemikalieanvändning. Begränsningar inkluderar hög utrustningskostnad, behov av noggrann processtyrning, risk för skador på värmekänsliga substrat och utmaningar med reproducerbarhet och skalning.