Gasphasenablagerung
Gasphasenablagerung bezeichnet Verfahren, bei denen Material aus gasförmigen Spezies auf ein Substrat abgeschieden wird. Der Stofftransfer erfolgt durch Gasströme, und die Bildung der festen Schicht kann durch chemische Reaktionen oder durch physikalische Kondensation bedingt sein. Die Verfahren lassen sich grob in chemische Gasphasenablagerung (CVD) und physikalische Gasphasenablagerung (PVD) unterteilen.
Bei der chemischen Gasphasenablagerung reagieren Gasphasenprecursoren entweder direkt an der Oberfläche oder in der Nähe des
Die physikalische Gasphasenablagerung erfolgt primär ohne chemische Reaktion in der Gasphase. Material wird aus einem Target
Gasphasenablagerung wird in der Halbleitertechnik, Optik, Schutz- und Funktionsschichten sowie in der Beschichtung von Bauteilen eingesetzt.
Zu den Vorteilen gehören eine hohe Prozesskontrolle, gute Schichtqualität und die Fähigkeit, komplexe Geometrien zu beschichten.
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