Prosessi ja laitteet: Tavallisesti käytetään plasma-tykkiä, virtalähdettä ja suodattimia sekä jauhe-ruiskutinta. Tyypillisiä suojakaasuja ovat argon sekä lisäkaasut, jotka ylläpitävät plasmaa. Substraatti esikäsitellään karhennuksella, kuten hiekkapuhaltamalla parantaen tartuntaa. APS (ilmakehän plasmasuihkutus) on yleisin muoto, mutta on olemassa VPS- (tyhjiö) ja IPS- (inertiö) plasmasuihkutuksia, joiden tarkoituksena on vähentää oksidaatiota ja parantaa laatua.
Materiaalit ja rakenteet: Pintajauheina käytetään usein alumiinidioksidia, keraamisia O-suojattuja kerroksia kuten YSZ-tyyppisiä (yttriö-säteilty zirconia) lämpöä eristäviä kerroksia sekä metallisia ja seosainepohjaisia pinnoitteita (esim. Ni-hallitut superalloyt, WC-Co). Pinnoite muodostuu kerrosten kaltaisista splat-soluista, joiden tiheys ja porosity voidaan määritellä prosessin parametreilla.
Sovellukset ja ominaisuudet: Käytetään laajalti ilmansuodattimissa, lämpöä eristävissä lämpöpinnoitteissa, kulutusta kestävissä pinnoitteissa sekä korroosionkestävissä pinnoitteissa. Esimerkiksi lämpötilan- ja kulutuskestävät pinnat turbokoneisiin sekä työstö- ja hitsauskalvot. Pinnoitteiden paksuus tyypillisesti 50–300 mikrometriä.
Edut ja rajoitteet: Plasmasuihkutus sallii laajan materiaalivalikoiman sekä monimutkaisten geometrioiden pinnoituksen. Tulokset voivat olla kide- ja porisiteeltä riippuvaisia; pinnoitteet voivat sisältää oksideja ja olla alttiita jäännösjännityksille. Prosessi on kustannuksiltaan korkea, ja vaatii turvallisuusasiat huomioivan ilmanlaadun sekä suojalaitteet.