InGaAsSchichten
InGaAs-Schichten, auch Indium-Gallium-Arsenid-Schichten, sind epitaktische Halbleiterstrukturen, die aus Indiumarsenid (InAs) und Galliumarsenid (GaAs) bestehen. Die allgemeine Zusammensetzung lautet InxGa1−xAs, wobei x den Anteil von Indium angibt. Durch Variation von x lässt sich die Bandlücke und damit die elektromagnetische Absorption bzw. Emission gezielt einstellen. Häufig werden InGaAs-Schichten auf InP-Substraten gewachsen, wobei x nahe 0,53 gewählt wird, um einen nahezu gittersynchronen Übergang zwischen Schicht und Substrat zu erreichen.
Bandstruktur und Spektralbereich
Die Bandlücke von InGaAs hängt stark von x ab: Sie reicht grob von ca. 0,36 eV (InAs)
InGaAs-Schichten werden überwiegend durch MBE (Molecular Beam Epitaxy) oder MOVPE/MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition) hergestellt. Die
InGaAs-Schichten finden breite Anwendung in optoelektronischen Bausteinen wie Laserdiode- und Photodiodenstrukturen, Modulatoren und integrierten Photonik-Chips auf