kuivapinnoitusmenetelmistä

Kuivapinnoitusmenetelmät, tunnetaan myös nimellä kuivakalvonpinnoitus, viittaavat joukkoon prosesseja, joissa materiaaleja kerrostetaan alustaan tyhjiössä tai plasmaolosuhteissa. Nämä menetelmät eroavat perinteisistä märkäpinnoitusmenetelmistä siinä, että ne eivät vaadi nestemäisten kemikaalien tai liuottimien käyttöä, mikä tekee niistä usein ympäristöystävällisempiä ja mahdollistaa erilaisten materiaalien pinnoittamisen.

Yleisimpiä kuivapinnoitusmenetelmiä ovat fysikaalinen kaasufaasipinnoitus (PVD) ja kemiallinen kaasufaasipinnoitus (CVD). PVD-prosesseissa materiaalia höyrystetään tai sputteroidaan alustan pinnalle. Höyrystys voi tapahtua esimerkiksi elektronisuihkulla tai vastuslämmityksellä. Sputteroinnissa ioniaseella irrotetaan atomit kohdemateriaalista, jotka sitten laskeutuvat alustalle. CVD-prosesseissa taas reaktiokaasut tuodaan reaktoritilaan, jossa ne hajoavat ja muodostavat pinnoitteen alustan pinnalle. Plasmaavusteinen CVD (PACVD) on yleinen CVD:n muunnos, jossa plasmaa käytetään edistämään kemiallisia reaktioita ja alentamaan prosessilämpötilaa.

Kuivapinnoitusmenetelmiä käytetään laajasti eri teollisuudenaloilla, kuten elektroniikassa puolijohteiden valmistuksessa, optiikassa linssien ja peilien pinnoittamisessa, työkaluissa kulutuskestävyyden parantamiseksi sekä lääketieteessä implanttien ja instrumenttien pintojen muokkaamisessa. Menetelmien etuja ovat muun muassa ohuiden, tasalaatuisten ja puhtaiden kalvojen muodostaminen, kyky pinnoittaa monimutkaisia muotoja ja erilaisia materiaaliyhdistelmiä sekä vältettävät ympäristöhaitat.