PVDprosesseissa

PVD-prosessissa (Physical Vapor Deposition) käytetään materiaalien pinnoittamiseen ja ohuiden kerrosten muodostamiseen pinnalleen. Prosessi perustuu materiaalin höyrystämiseen ja sen sitomiseen kohdepinnalle. PVD on tärkeä tekniikka monilla aloilla, kuten elektronisessa, optisessa ja korroosionkestävien pinnoitteiden valmistuksessa.

Prosessin periaate alkaa höyrystämisvaiheessa, jossa pinnoitettava materiaali kuumennetaan korkeaan lämpötilaan tai altistetaan ionisuihkulle, jolloin se muuttuu kaasumaisiksi atomiksi tai molekyyleiksi. Nämä höyrymolekyylit liikkuvat tyhjiössä ja laskeutuvat kohdepinnalle. Prosessin aikana voidaan käyttää erilaisia tekniikoita, kuten lämpöhöyrystämistä, ionisuihkua (sputtering) tai elektronisuihkua (electron beam evaporation).

PVD-prosessissa käytetään tyhjiötä, koska se vähentää epäpuhtauksien ja hapen vaikutusta, mikä varmistaa pinnoitteen laadun. Prosessin aikana voidaan käyttää myös magneettisia kenttiä (magnetron sputtering) parantaakseen höyrymolekyylien suuntautumista ja pinnoitteen tiheyttä. Pinnoitteen ominaisuudet, kuten kovuus, kestävyys ja optiset ominaisuudet, riippuvat käytetystä materiaalista ja prosessin parametreista.

PVD-pinnoitteita käytetään laajalti korroosionkestävien ja kulutuskestävien pinnoitteiden valmistuksessa, kuten metallien ja muovien pinnoittamisessa. Ne ovat myös tärkeitä optisten peilien, LED-valojen ja elektronisten komponenttien valmistuksessa. Prosessi mahdollistaa myös erilaisten kerrosten kerrostamisen, mikä avaa mahdollisuuksia monimutkaisempiin materiaaliratkaisuihin.