fotosuojakerrokseen

Fotosuojakerros on ohut suojakerros, jonka tarkoituksena on estää valon aiheuttamaa fotodegradointia sekä suojata alihankkerroksia kosteudelta, hapelta ja mekaaniselta kulumiselta. Sitä käytetään erityisesti valon herkissä ja fotosensitiivisissä järjestelmissä sekä lasipinnoitteissa ja muissa ulkoisiin tekijöihin altistuvissa sovelluksissa.

Toiminta ja tavoitteet: Fotosuojakerroksen on oltava optisesti sopiva ja läpinäkyvä niille aallonpituuksille, joita järjestelmä tarvitsee. Sen on oltava kemiallisesti ja lämpötilavaihteluissa vakaa sekä tiivis kosteuden ja hapen pääsyn estämiseksi. Yleensä käytetään yksittäisiä materiaaleja tai monikerroksisia rakenteita, joissa tiiviys ja esteettömyys yhdistyvät mekaaniseen kestävyyteen.

Materiaalit ja rakenteet: Yleisimmät vaihtoehdot ovat epäorgaaniset oksidit (kuten SiO2, Al2O3, TiO2) sekä nitridit; näiden kerrosten etuna ovat hyvä läpinävyys ja barrier-ominaisuudet. Organiset tai hybridiset pinnoitteet sekä monikerroksiset järjestelmät voivat parantaa sekä valonläpäisyä että kosteuden- ja hapenkestävyyttä. Joissakin ratkaisuissa yhdistetään antiheijastavia ominaisuuksia.

Sovellukset: Käytössä on muun muassa perovskitteisten ja muiden fotoaktiivisten kerrosten suojaukset, fotoresistikerrosten ja kuva- sekä näyttöteknologian suojakerrokset sekä rakennusten rakennus- ja lasipinnoitteet, jotka tarvitsevat pitkäaikaista valon- ja kosteudenkestoa.

Valmistus ja arviointi: Fotosuojakerroksia voidaan levittää ALD-, CVD- tai PVD-menetelmillä sekä ruiskupinnoittein. Paksuus vaihtelee muutamasta nanometristä useampaan sataan nanometriin. Ominaisuuksia arvioidaan kosteuden- ja hapenläpäisevyydellä, UV-kestävyyden kokeilla sekä liimaus- ja kestävyystesteillä. Elinkaariarvioinneja tehdään lämpötilavaihteluille ja kirkkauden seurannalle.

---