Litografiamenetelmiä

Litografiamenetelmiä viittaa erilaisiin tekniikoihin, joita käytetään kuvioiden tai tekstin luomiseen pinnalle, yleensä kiveen tai muuhun tasopohjaiseen materiaaliin, käyttäen öljyn ja veden hylkivyyden periaatetta. Historiallisesti litografia oli painomenetelmä, jossa kuvio piirrettiin rasvaisella liidulla tai musteella kalkkikivilaatalle. Kun laatta kostutettiin vedellä, vesi tarttui alueisiin, joihin ei ollut piirretty, ja hylki rasvaisia alueita. Tämän jälkeen laatalle levitettiin mustetta, joka tarttui vain rasvaisiin kuvioihin. Painopaperi asetettiin laatan päälle ja painetta käytettiin musteen siirtämiseen paperille.

Nykyaikainen litografia on kehittynyt merkittävästi alkuperäisestä menetelmästä. Se on yksi tärkeimmistä puolijohdeteollisuuden valmistusmenetelmistä, jota kutsutaan optiseksi litografiaksi tai fotolitografiaksi. Tässä prosessissa käytetään valoa kuvioiden siirtämiseen valoherkälle materiaalille, jota kutsutaan fotoresistiksi, piirilevyn tai mikroprosessorin kaltaiselle alustalle. Erilaisia valonlähteitä, kuten ultraviolettivaloa tai jopa EUV-valoa (Extreme Ultraviolet), käytetään erittäin pienten rakenteiden luomiseksi. Prosessiin kuuluu yleensä valotuksen, kehityksen ja syövytyksen vaiheet kuvioiden pysyvän luomiseksi alustalle. Toinen litografian muoto on sähkön litografia, joka käyttää elektronisuihkua erittäin tarkkojen kuvioiden luomiseen, usein tutkimus- ja kehitystarkoituksiin. Litografiamenetelmät ovat siis monipuolisia ja niillä on sovelluksia taiteesta aina huipputeknologiaan.