Ladestamisega

Ladestamisega viidatakse protsessile, mille jooksul aine või ainetihedus deposiiteeritakse pinnale või lahuse koosseisu ning tekib kiht või sade. See mõiste hõlmab nii gaasist, vedelikust kui lahustest tekkivaid ladestusi kui ka ülepinneval aluspinnal moodustuvaid katteid. Ladestamisega seotud protsessid võivad toimuda nii looduses kui tehiskeskkonnas ning neid kasutatakse laialdaselt materjalitehnoloogias ja geoloogias.

Peamised ladestamisviisid hõlmavad elektrodeponeerimist (elektrolüütiline ladestamine), keemilist ladestamist lahuses ja erinevaid aurulaadestamise vorme. Elektrodeponeerimine selekteerib ioonid elektrivoolu mõjul ning moodustab aluspinnale tiheda kihi. Keemiline ladestamine toimub lahuses, kus lahustunud ained viiakse oodatud kehina välja ja sadestuvad pinnale. Füüsikaline aurude ladestamine ja keemiline aurupedestamine hõlmavad ainetelt pihustamist või kondenseerumist pinnale gaasilisest olekust tekitades õhukese kihi.

Ladestamisega seotud mehhanismid hõlmavad nape nurkade ja kasvumenetlust ning võivad sõltuda lahuse koostisest, temperatuurist, pH-st, segamisest ja rakendatavast energiast (näiteks voolust). Kvaliteetne kiht näitab ühtlust, väikest defektide arvu ja soovitud paksust. Ladestamist kasutatakse laialdaselt korrosioonikaitses, dekoratiivkatted, elektroonikakoostamises, optilises ja fotonilises tehnoloogias ning geoloogilises settekivimis.

Kokkuvõttes on ladestamisega mitmekülgne meetod, mille abil saab luua kontrollitavaid kihte ja sadeid erinevates keskkondades ning mis on keskne nii tööstuslike kui loodussüsteemide uurimisel.