Felületellenállás

Felületellenállás, vagy sheet resistance, írja le egy vékony film vagy felület síkjában elhelyezkedő anyag ellenállását, amikor a felületen áram folyik két szomszédos oldalán. Az egységét gyakran ohm per square (Ω/□) adja meg. A felületellenállás a négyzet méretétől független, feltéve hogy a film rétegvastagsága és összetétele egységes.

A felületellenállás összefügg a vastagsággal és az anyag belső ellenállásával: ha a filmszerű réteg homogén, akkor Rs = ρ/t, ahol ρ a belső ellenállásban meghatározott válasz, t pedig a film vastagsága. Egy téglalap alakú minta esetén a tartományi ellenállás R = Rs × (L/W), ahol L a hossz, W a szélesség. Ebből adódóan a vékonyfémek és bevonatok tervezésekor a Rs értéke kritikus jellemző.

Mérési módszerek közé tartozik a négypontos probe (four-point probe) és a Van der Pauw módszer, melyek célja a kontaktus ellenállásának hatását kizárni és csak a felületellenállást meghatározni. Ezeket gyakran alkalmazzák vékony filmekre, hordozóanyag nélküli bevonatokra, illetve felületek vezetőképességének karakterizálására.

Alkalmazási területek közé tartozik az elektronikai bevonatok, vékonyfilm-technológiák, antiszti és tapadást segítő bevonatok, fotovoltaikus rétegek és nyomtatott elektronika. Az értékek széles skálán mozoghatnak anyagtól és előállítási körülményektől függően, a mért Rs értékek lehetnek nagyon alacsonyak vagy nagyon magasak, és a felület minősége, szennyeződés vagy követelődés jelentősen befolyásolhatják a kapott eredményeket.