vakuumihöyrystystä

Vakuumihöyrystys, tunnetaan myös nimellä PVD (Physical Vapor Deposition), on joukko teknologioita, joita käytetään ohuiden kalvojen kerrostamiseen substraatin pinnalle. Prosessissa materiaali höyrystetään tyhjiössä ja se kondensoituu sitten substraatin pinnalle muodostaen ohuen kalvon. Vakuumihöyrystystä voidaan käyttää monenlaisten materiaalien, kuten metallien, keramiikkojen ja eristemateriaalien, kerrostamiseen.

Vakuumihöyrystysprosessit voidaan jakaa useisiin eri tyyppeihin, joista yleisimpiä ovat sputterointi ja haihdutus. Sputteroinnissa kohdemateriaalia pommitetaan energiapitoisilla hiukkasilla, kuten ioneilla, jotka irrottavat kohdemateriaalista atomeja tai molekyylejä. Nämä irronneet hiukkaset matkustavat tyhjiössä ja laskeutuvat substraatin pinnalle muodostaen kalvon. Haihdutuksessa kohdemateriaalia kuumennetaan tyhjiössä, kunnes se höyrystyy. Höyrystynyt materiaali matkustaa sitten substraattiin ja tiivistyy muodostaen kalvon.

Vakuumihöyrystystä käytetään monissa sovelluksissa, kuten elektroniikassa, optiikassa, työkaluissa ja lääkinnällisissä laitteissa. Esimerkiksi puolijohteiden valmistuksessa vakuumihöyrystystä käytetään erilaisten sähköisten kerrosten luomiseen piisiruille. Optisissa sovelluksissa sitä käytetään heijastavien tai heijastamattomien pinnoitteiden luomiseen linsseihin ja peileihin. Työkaluteollisuudessa sitä käytetään kovien ja kulutusta kestävien pinnoitteiden luomiseen leikkaustyökaluihin. Lääketieteellisissä laitteissa sitä käytetään bioyhteensopivien ja antimikrobisten pinnoitteiden luomiseen.