plasmaøkning
Plasmaøkning er en betegnelse inden for plasmafysik der beskriver processen hvor tætheden af ladede partikler i en plasma øges. Øgningen af plasmaets densitet kan ske i både natur- og laboratorieforhold og er vigtig for en række teknologiske anvendelser samt grundforskning.
Plasmaøkning opstår primært ved at øge ionisering, enten gennem højere energiindgivelse til elektroner eller gennem mere
Enheder til at øge plasmaets tæthet omfatter DC-glimdispositive kilder, RF-displays, induktivt koblede plasmas (ICP) og kapacitativt
Plasmaets tæthet måles ofte med Langmuir-prober eller interferometri, og gennem-lysdimensioner og emission anvendes til at vurdere
Høj plasma-densitet forbedrer etse- og afsætningsprocesser i halvlederindustrien, øger materialemodificeringseffektivitet og spiller en central rolle i
Høje spændinger, stærke elektromagnetiske felter og ioniserende stråling kræver passende beskyttelse og sikkerhedsforanstaltninger.