Vakuumihöyrystyksen

Vakuumihöyrystys, tunnetaan myös nimellä vakuumihaudutus tai tyhjiöhöyrystys, on fysikaalinen prosessi, jota käytetään ohuiden kalvojen kasvattamiseen erilaisille materiaaleille. Prosessissa materiaali höyrystetään korkeassa tyhjiössä, ja höyrystyneet atomit tai molekyylit laskeutuvat substraatin pinnalle muodostaen tasaisen kalvon.

Tyhjiön käyttö on välttämätöntä, jotta höyrystynyt materiaali voi matkustaa höyrystyslähteestä substraatille ilman törmäyksiä ilmamolekyylien kanssa. Tämä mahdollistaa kalvon tasaisen kasvun ja estää epäpuhtauksien kertymisen kalvoon. Höyrystys voidaan suorittaa useilla eri tavoilla, kuten resistiivisellä lämmityksellä, elektronisuihkulla tai laserilla.

Vakuumihöyrystystä käytetään laajasti monilla eri teollisuudenaloilla. Se on keskeinen menetelmä puolijohdeteollisuudessa puolijohdekomponenttien valmistuksessa, optisessa teollisuudessa linssien ja peilien pinnoittamisessa sekä metallintyöstössä työkalujen ja osien kovuuden parantamisessa. Sitä hyödynnetään myös aurinkokennojen, näyttöjen ja muiden elektroniikkalaitteiden valmistuksessa. Kalvon paksuutta, koostumusta ja rakennetta voidaan kontrolloida tarkasti prosessiparametreja säätämällä, mikä tekee vakuumihöyrystyksestä erittäin monipuolisen ja arvostetun ohutkalvotekniikan.