Tyhjiöpäällystystä

Tyhjiöpäällystys, tunnetaan myös nimellä Physical Vapor Deposition (PVD), on ryhmä teollisia ohutkalvon pinnoitusprosesseja, joissa materiaalia siirretään tyhjiökammiossa olevasta lähteestä alustaan. Tämä menetelmä mahdollistaa erittäin ohuiden, mutta tiiviiden ja kestävien kalvojen muodostamisen eri materiaaleista. Prosessi alkaa tyhjiön luomisella kammiossa, mikä vähentää ilmassa olevien molekyylien määrää ja estää epäpuhtauksien kertymistä pinnoitteeseen. Sen jälkeen pinnoitettava materiaali saatetaan kaasumaiseen olomuotoon joko höyrystämällä tai sputteroimalla. Höyrystyessään aine muuttuu kaasuksi ja kulkeutuu tyhjiön avulla alustalle, jossa se tiivistyy ohueksi kerrokseksi. Sputteroinnissa kohdemateriaalia pommitetaan korkeaenergiaisilla ioneilla, jotka irrottavat siitä atomeja, jotka sitten laskeutuvat alustalle. Tyhjiöpäällystystä käytetään laajasti monilla teollisuudenaloilla, kuten optiikassa, elektroniikassa, työkaluvalmistuksessa ja lääketieteellisissä laitteissa. Sillä voidaan parantaa materiaalien kovuutta, kulutuskestävyyttä, sähköjohtavuutta, optisia ominaisuuksia ja kemiallista stabiilisuutta. Prosessin avulla voidaan luoda myös koristeellisia ja toiminnallisia pinnoitteita.