Overfladeoxidation

Overfladeoxidation er dannelse og vækst af et oxidlag på en overflade ved eksponering for et oxidationsmiljø. Det ses hos metaller, halvledere og visse polymerer. Ved metaller danner ilt metaloxider som Al2O3 eller Fe2O3. Oxidlaget kan være beskyttende og give passivering, eller porøst og dårligt vedhæftet og fremme nedbrydning.

For halvledere som silicium dannes naturligt siliciumdioxid i luft, mens tynde termisk oxide bruges som isolator i elektronik. Oxidvækst følger ofte diffusionskontrol og kan vise parabolisk vækst ved høj temperatur.

Hos polymerer kan overfladeoxidation introducere polære grupper via ilt, ozon eller plasma, øge overfladeenergi og forbedre klæbeevne og vådbarhed. Det er også en forbehandling før belægninger.

Faktorer, der påvirker oxidation, omfatter temperatur, fugtighed, ilttryk, urenheder, mikrostruktur og eksponeringstid. Kontrol kan opnås gennem legering, anodisering, termisk oxidation, plasma- eller kemiske overfladebehandlinger eller ved at anvende beskyttende belægninger.

Se også: passivering, native oxide, oxidlag, oxidation kinetics.